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關鍵尺寸測量的一個重要原因是要達到對產品所有線寬的精確控制，因為芯片關鍵尺寸的變化通常顯示出半導體制造工藝中一些關鍵環節的不穩定性。 關鍵尺寸測量需要精度和準確性優于2nm的測量儀器，能夠獲得這種測量水平的儀器是掃描電子顯微鏡（SEM）。

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